咱们的极紫外光刻胶，历尽艰难终于給干成了。不仅可以造7nm以下的芯片，还绕开了所
咱们的极紫外光刻胶，历尽艰难终于給干成了。不仅可以造7nm以下的芯片，还绕开了所有的国外专利，性能甚至比国际巨头的产品更能打。中国半导体企业有了自己翻盘的底气。要知道光刻胶这个东西，是非常的金贵，大家可以把它理解...
标签: 极紫外光刻
日本2nm芯片成功试产，中国“极紫外专项”进展如何？我国“极紫外专项”源于国家
光刻胶材料：中科院化学所、北京科华微电子等联合承担的“极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”项目，完成了EUV光刻胶关键材料设计、制备及工艺研发。集中资源搞大项目、啃硬骨头，一直是我们举国体制的最大优势，相信中国2...
台积电盘前涨超1%料年底将接收首批全球最先进的高数值孔径极紫外光刻机
消息面上，台积电预计将于今年年底从ASML接收首批全球最先进的高数值孔径极紫外光刻机。此外，天风国际分析师郭明錤称，苹果计划于2025下半年推出的新品(例如iPhone17等)将采用自研Wi-Fi7芯片，基于台积电N7工艺制造。(格隆汇)